جنس – سرامیک

♦آلومینا(آلومینا)2O3)

قطعات سرامیکی دقیق تولید شده توسط گروه تولیدی هوشمند ZhongHui (ZHHIMG) را می‌توان از مواد اولیه سرامیکی با خلوص بالا، ۹۲ تا ۹۷ درصد آلومینا، ۹۹.۵ درصد آلومینا، >۹۹.۹ درصد آلومینا و پرس ایزواستاتیک سرد CIP ساخت. تف‌جوشی در دمای بالا و ماشینکاری دقیق، دقت ابعادی ± ۰.۰۰۱ میلی‌متر، صافی تا Ra0.1، دمای استفاده تا ۱۶۰۰ درجه. رنگ‌های مختلف سرامیک را می‌توان بر اساس نیاز مشتری، مانند: سیاه، سفید، بژ، قرمز تیره و غیره، ساخت. قطعات سرامیکی دقیق تولید شده توسط شرکت ما در برابر دمای بالا، خوردگی، سایش و عایق مقاوم هستند و می‌توانند برای مدت طولانی در دمای بالا، خلاء و محیط‌های گاز خورنده استفاده شوند.

به طور گسترده در انواع تجهیزات تولید نیمه هادی استفاده می شود: قاب ها (براکت سرامیکی)، زیرلایه (پایه)، بازو/پل (مانیپولاتور)، قطعات مکانیکی و یاتاقان هوایی سرامیکی.

AL2O3

نام محصول لوله / لوله / میله مربعی سرامیکی آلومینا با خلوص بالا 99
فهرست واحد ۸۵٪ Al2O3 ۹۵٪ Al2O3 ۹۹٪ Al2O3 ۹۹.۵٪ Al2O3
تراکم گرم بر سانتی‌متر مکعب ۳.۳ ۳.۶۵ ۳.۸ ۳.۹
جذب آب % <0.1 <0.1 0 0
دمای سینتر شده ۱۶۲۰ ۱۶۵۰ ۱۸۰۰ ۱۸۰۰
سختی موهس 7 9 9 9
مقاومت خمشی (20℃)) مگاپاسکال ۲۰۰ ۳۰۰ ۳۴۰ ۳۶۰
مقاومت فشاری کیلوگرم نیرو بر سانتی‌متر مربع ۱۰۰۰۰ ۲۵۰۰۰ ۳۰۰۰۰ ۳۰۰۰۰
دمای کار طولانی مدت ۱۳۵۰ ۱۴۰۰ ۱۶۰۰ ۱۶۵۰
حداکثر دمای کاری ۱۴۵۰ ۱۶۰۰ ۱۸۰۰ ۱۸۰۰
مقاومت ویژه حجمی 20℃ اهم. سانتی‌متر مکعب >1013 >1013 >1013 >1013
۱۰۰℃ ۱۰۱۲-۱۰۱۳ ۱۰۱۲-۱۰۱۳ ۱۰۱۲-۱۰۱۳ ۱۰۱۲-۱۰۱۳
300℃ >109 >1010 >1012 >1012

کاربرد سرامیک آلومینا با خلوص بالا:
۱. قابل استفاده در تجهیزات نیمه‌هادی: سه نظام سرامیکی، دیسک برش، دیسک تمیزکننده، سه نظام سرامیکی.
۲. قطعات انتقال ویفر: سه نظام‌های جابجایی ویفر، دیسک‌های برش ویفر، دیسک‌های تمیزکننده ویفر، مکنده‌های بازرسی نوری ویفر.
۳. صنعت نمایشگرهای تخت LED/LCD: نازل سرامیکی، دیسک سنگ‌زنی سرامیکی، پین LIFT، ریل پین.
۴. ارتباطات نوری، صنعت خورشیدی: لوله‌های سرامیکی، میله‌های سرامیکی، تراشنده‌های سرامیکی چاپ روی صفحه مدار چاپی.
۵. قطعات مقاوم در برابر حرارت و عایق الکتریکی: یاتاقان‌های سرامیکی.
در حال حاضر، سرامیک‌های اکسید آلومینیوم را می‌توان به سرامیک‌های با خلوص بالا و معمولی تقسیم کرد. سری سرامیک‌های اکسید آلومینیوم با خلوص بالا به مواد سرامیکی حاوی بیش از 99.9٪ Al₂O₃ اشاره دارد. به دلیل دمای پخت آن تا 1650 تا 1990 درجه سانتیگراد و طول موج انتقال آن 1 تا 6 میکرومتر، معمولاً به جای بوته پلاتینی به شیشه ذوب شده تبدیل می‌شود: که به دلیل انتقال نور و مقاومت در برابر خوردگی در برابر فلز قلیایی، می‌تواند به عنوان لوله سدیم مورد استفاده قرار گیرد. در صنعت الکترونیک، می‌توان از آن به عنوان ماده عایق فرکانس بالا برای زیرلایه‌های IC استفاده کرد. با توجه به محتوای مختلف اکسید آلومینیوم، سری سرامیک‌های اکسید آلومینیوم معمولی را می‌توان به سرامیک‌های 99، سرامیک‌های 95، سرامیک‌های 90 و سرامیک‌های 85 تقسیم کرد. گاهی اوقات، سرامیک‌هایی با 80٪ یا 75٪ اکسید آلومینیوم نیز به عنوان سری سرامیک‌های اکسید آلومینیوم معمولی طبقه‌بندی می‌شوند. در میان آنها، از مواد سرامیکی اکسید آلومینیوم 99 برای تولید بوته‌های دمای بالا، لوله‌های کوره ضد حریق و مواد مقاوم در برابر سایش ویژه مانند یاتاقان‌های سرامیکی، آب‌بندهای سرامیکی و صفحات سوپاپ استفاده می‌شود. سرامیک‌های آلومینیومی 95 عمدتاً به عنوان قطعات مقاوم در برابر خوردگی و سایش استفاده می‌شوند. سرامیک‌های 85 اغلب با برخی خواص مخلوط می‌شوند و در نتیجه عملکرد الکتریکی و استحکام مکانیکی را بهبود می‌بخشند. می‌توان از آب‌بندهای فلزی مولیبدن، نیوبیوم، تانتالوم و سایر فلزات استفاده کرد و برخی از آنها به عنوان دستگاه‌های خلاء الکتریکی استفاده می‌شوند.

 

کالای باکیفیت (ارزش نمایندگی) نام محصول AES-12 AES-11 AES-11C AES-11F AES-22S AES-23 AL-31-03
ترکیب شیمیایی: محصول کم سدیم با قابلیت پخت آسان H₂O % ۰.۱ ۰.۱ ۰.۱ ۰.۱ ۰.۱ ۰.۱ ۰.۱
روده بر شدن از خنده % ۰.۱ ۰.۲ ۰.۱ ۰.۱ ۰.۱ ۰.۱ ۰.۱
Fe₂0₃ % ۰.۰۱ ۰.۰۱ ۰.۰۱ ۰.۰۱ ۰.۰۱ ۰.۰۱ ۰.۰۱
SiO₂ % ۰.۰۳ ۰.۰۳ ۰.۰۳ ۰.۰۳ ۰.۰۲ ۰.۰۴ ۰.۰۴
Na₂O % ۰.۰۴ ۰.۰۴ ۰.۰۴ ۰.۰۴ ۰.۰۲ ۰.۰۴ ۰.۰۳
منیزیم اکسید % - ۰.۱۱ ۰.۰۵ ۰.۰۵ - - -
Al₂0₃ % ۹۹.۹ ۹۹.۹ ۹۹.۹ ۹۹.۹ ۹۹.۹ ۹۹.۹ ۹۹.۹
قطر ذرات متوسط ​​(MT-3300، روش آنالیز لیزری) میکرومتر ۰.۴۴ ۰.۴۳ ۰.۳۹ ۰.۴۷ ۱.۱ ۲.۲ 3
اندازه کریستال α میکرومتر ۰.۳ ۰.۳ ۰.۳ ۰.۳ ۰.۳ تا ۱.۰ ۰.۳ تا ۴ ۰.۳ تا ۴
چگالی شکل‌دهی** گرم بر سانتی‌متر مکعب ۲.۲۲ ۲.۲۲ ۲.۲ ۲.۱۷ ۲.۳۵ ۲.۵۷ ۲.۵۶
چگالی تف‌جوشی** گرم بر سانتی‌متر مکعب ۳.۸۸ ۳.۹۳ ۳.۹۴ ۳.۹۳ ۳.۸۸ ۳.۷۷ ۳.۲۲
نرخ انقباض خط پخت** % 17 17 18 18 15 12 7

* MgO در محاسبه خلوص Al₂O₃ لحاظ نشده است.
* بدون پودر پوسته پوسته شدن ۲۹.۴ مگاپاسکال (۳۰۰ کیلوگرم بر سانتی‌متر مربع)، دمای پخت ۱۶۰۰ درجه سانتیگراد است.
AES-11 / 11C / 11F: با افزودن 0.05 ~ 0.1% MgO، قابلیت تف‌جوشی عالی است، بنابراین برای سرامیک‌های اکسید آلومینیوم با خلوص بیش از 99% قابل استفاده است.
AES-22S: با چگالی شکل‌دهی بالا و نرخ انقباض پایین خط پخت، برای ریخته‌گری با قالب دوغابی و سایر محصولات در مقیاس بزرگ با دقت ابعادی مورد نیاز قابل استفاده است.
AES-23 / AES-31-03: این ماده چگالی شکل‌پذیری، تیکسوتروپی و ویسکوزیته پایین‌تری نسبت به AES-22S دارد. اولی برای سرامیک‌ها استفاده می‌شود در حالی که دومی به عنوان کاهنده آب برای مواد ضد حریق استفاده می‌شود و محبوبیت زیادی پیدا کرده است.

♦ مشخصات کاربید سیلیکون (SiC)

مشخصات عمومی خلوص اجزای اصلی (درصد وزنی) 97
رنگ سیاه
چگالی (گرم بر سانتی‌متر مکعب) ۳.۱
جذب آب (%) 0
ویژگی‌های مکانیکی استحکام خمشی (مگاپاسکال) ۴۰۰
مدول یانگ (گیگاپاسکال) ۴۰۰
سختی ویکرز (گیگاپاسکال) 20
ویژگی‌های حرارتی حداکثر دمای عملیاتی (°C) ۱۶۰۰
ضریب انبساط حرارتی دمای عملیاتی ~ ۵۰۰ درجه سانتی‌گراد ۳.۹
(1/°C x 10-6) دمای عملیاتی ~ 800 درجه سانتیگراد ۴.۳
رسانایی حرارتی (W/m x K) ۱۳۰ ۱۱۰
مقاومت در برابر شوک حرارتی ΔT (°C) ۳۰۰
ویژگی‌های الکتریکی مقاومت ویژه حجمی ۲۵ درجه سانتی‌گراد ۳ × ۱۰۶
۳۰۰ درجه سانتی‌گراد -
۵۰۰ درجه سانتی‌گراد -
۸۰۰ درجه سانتی‌گراد -
ثابت دی الکتریک ۱۰ گیگاهرتز -
تلفات دی‌الکتریک (x 10-4) -
ضریب کیو (x 104) -
ولتاژ شکست دی‌الکتریک (KV/mm) -

۲۰۲۰۰۵۰۷۱۷۰۳۵۳_۵۵۷۲۶

♦سرامیک نیترید سیلیکون

مواد واحد Si₃N₄
روش پخت - فشار گاز متخلخل
تراکم گرم بر سانتی‌متر مکعب ۳.۲۲
رنگ - خاکستری تیره
میزان جذب آب % 0
مدول یانگ معدل ۲۹۰
سختی ویکرز معدل ۱۸ - ۲۰
مقاومت فشاری مگاپاسکال ۲۲۰۰
مقاومت خمشی مگاپاسکال ۶۵۰
رسانایی حرارتی وات/میلی‌کیلووات 25
مقاومت در برابر شوک حرارتی Δ (درجه سانتیگراد) ۴۵۰ - ۶۵۰
حداکثر دمای عملیاتی درجه سانتیگراد ۱۲۰۰
مقاومت ویژه حجمی اهم·سانتی‌متر > 10 ^ 14
ثابت دی الکتریک - ۸.۲
مقاومت دی الکتریک کیلوولت/میلی‌متر 16